Производство интегральных микросхем с субмикронными проектными нормами 0,18 мкм

В планах «Интеграл» переход на 180 нм техпроцесс.
В ходе пресс конференции, состоявшейся 9 апреля 2009 года, Владимир Гранько, заместитель технического директора НПО «Интеграл», сообщил о планах по реализации инвестиционного проекта, предусматривающего обустройство линии интегральных микросхем с проектными нормами 0,18 мкм.

По словам Гранько, решением, принятым Советом министров еще в конце 2008 года, на «Интеграле» будет реализован проект, согласно которому объединение будет ежемесячно выпускать около 3000 пластин с проектными нормами 0,18 мкм. Также программой развития до 2023 года предусмотрено пошаговое уменьшение размера микросхем.

«Мы хорошо осведомлены о работе, проводимой нашими российскими коллегами, а также о состоянии дел в микроэлектроники у них, однако, наши линии уже сегодня производят серийную продукцию, в то время как в России линия все еще готовится к запуску», — заметил В. Гранько.

Также Гранько рассказал о том, что уже в 2008 году был успешно реализован проект по созданию производственной линии интегральных микросхем с проектными нормами 0,35 мкм, являющейся на сегодняшний день одной из наиболее высокотехнологичных линий на территории СНГ.

Согласно разработанному на предприятии плану, выйти на проектную мощность в 1000 пластин ежемесячно, удастся еще до конца этого года, пока что линия загружена примерно наполовину. Продукция предприятия пользуется спросом как на отечественном и российском рынке, так и в странах дальнего зарубежья (Европа, Юго-Восточная Азия).

25.04.2009 // Войти в Беларусь